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真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支,在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。佛山市真空泵廠有限公司接下來將為您介紹真空鍍膜應(yīng)用的主要幾種方法。
真空鍍膜應(yīng)用,簡單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括:
首先是真空蒸鍍。其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
其次是濺射鍍膜。濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
第三,離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來的,因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,并在離子轟擊下,將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過程中,基片始終受到高能粒子的轟擊,十分清潔。
第四,真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù),以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物理氣相沉積技術(shù)應(yīng)用(PVD)。
接下來是化學(xué)氣相沉積(CVD)。它是以化學(xué)反應(yīng)的方式制作薄膜,原理是一定溫度下,將含有制膜材料的反應(yīng)氣體通到基片上并被吸附,在基片上產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)形成核,隨后反應(yīng)生成物脫離基片表面不斷擴散形成薄膜。
束流沉積鍍,結(jié)合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術(shù)的離子表面復(fù)合處理技術(shù),是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料,在比較低的基片溫度下,形成具有良好特性薄膜的技術(shù)。