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真空系統(tǒng)及真空設(shè)備組成較多,但真空技術(shù)籠統(tǒng)地說就是解決氣源與抽氣問題,從而實現(xiàn)各種應用。它涉及氣源與器壁、空間的一些列過程變化。因此真空技術(shù)在應用前需要研究以下幾個方面的內(nèi)容。
一、稀薄氣體分子運動理論
稀薄氣體分子運動理論主要研究空間氣體分子之間碰撞、氣體分子與器壁之間碰撞時的運動規(guī)律。它包括氣體處于平衡態(tài)時(即宏觀量如壓力、溫度、密度等處處一致時)的物理特性、規(guī)律;也包括宏觀量在空間分布不均勻的非平衡態(tài)時,出現(xiàn)的氣體遷移現(xiàn)象。同時還包括超出理想氣體假設(shè)、超出經(jīng)典統(tǒng)計規(guī)律之外更復雜的某些實際問題。
二、真空中的氣體流動
真空中的氣體流動理論包括各種稀薄氣體流態(tài)研究,不同幾何形狀的容器或管道對氣體流動的阻力研究。關(guān)于真空中的氣體流態(tài),大家可以參見下方的推薦文章。
三、真空中的熱力學問題
真空中各種氣相與凝聚相之間的相變和化學變化過程,如蒸發(fā)和凝結(jié)、分解、表面熱化學反應、吸氣和出氣等,研究它們達到平衡時的狀態(tài)及過程進行的速率,在真空技術(shù)中有著重要的實際意義。
四、吸附脫附及溶解、滲透擴散
這部分主要涉及固體及固體表面與氣體分之間的相互作用。
五、真空中的電現(xiàn)象
真空中的電現(xiàn)象主要包括電子發(fā)射以及氣體放電。它們的實際應用相當廣泛,如電子槍、顯示器件、真空鍍膜技術(shù)、離子注入刻蝕、離子清洗等,都是對真空電現(xiàn)象的實際應用。
以上5個方面是真空技術(shù)應用在物理方面上會涉及研究的主要幾個方面,當然在化工等應用上,會涉及更多的化學學科內(nèi)容。